센서 : Silicium

범위 / Psi : 10mbar - 40bar
                    0.145psi - 580psi

공정 온도 : -40 ° C~ 85 ° C
                  -40 °C, ... 185 °C

선형성 : 0,1 % (플래티넘 버전은 0.075 %로)

센서 :세라믹

프로세스 연결 :PVDF 플랜지

범위 :- 2.5kPa ... +2.5 kPa

프로세스 온도 :-20 ° C ~ 85 ° C

선형성 :
0.075 %, 턴 다운 100:1 (0.05 % 옵션)

센서 :piezoresistive 프로브

프로세스 연결 :
표준은 42MPa까지 큰 압력
격막 : 탄탈

범위 :- 1kPa ... +1 kPa

프로세스 온도 :-20 ° C ~ 120 ° C

선형성 :0.075 %, 턴 다운 100:1
              (0.05 % 옵션)

센서 : 세라믹

프로세스 연결 :플랜지

범위 :- 10kPa ... +10 kPa
         - 0.3MPa ... +0.3 MPa

프로세스 온도 :-20 ° C ~ 85 ° C

선형성 :± 0.075 %
             턴 다운 100:1
             (0.05 % ± 옵션)

센서 :
piezoresistive probes

프로세스 연결 :
메탈 프리 사양 (PVDF 플랜지)

범위 :- 10kPa ... +10 kPa

프로세스 온도 :최대 350 ° C까지

선형성 :0.075 %, 턴 다운 100:1

센서 :piezoresistive probes

프로세스 연결 :각종 구경 용 플랜지,위생 연결

범위 :- 10kPa ... +10 kPa

프로세스 온도 :최대 350 ° C까지

선형성 :0.075 %, 턴 다운 100:1